Ti:sapphire lasers Ti:Al2O3 Laser z nastavljivo valovno dolžino in kratkimi sunki Ti:sapphire lasers Ti:Al2O3 650 to 1100 nanometers. Ti:sapphire lasers operate most efficiently at wavelengths near 800 nm. First constructed in 1982. Ti:sapphire laser is usually pumped with another laser with a wavelength of 514 to 532 nm, for which argon-ion lasers (514.5 nm) and frequency-doubled Nd:YAG, Nd:YLF, and Nd:YVO lasers (527-532 nm) are used.
Za doseganje kratkih sunkov je treba obvladati disperzijo v materialih. Primer H2O. V območju prozornosti hitrost svetlobe pada s frekvenco ➔ normalna disperzija
Obvladovanje disperzije z uporabo uklonskih mrežic
Za visok izkoristek uporabimo žagasto uklonsko mrežico. Na eni ploskvici je odbojni kot izbran tako, da ustreza tudi kotu Prvega uklonskega maksimuma.
Za kompenzacijo uporabimo lahko tudi par prizem. Zakasnitev za žarke različnih barv je odvisna od dolžine poti v drugi prizmi. Razmerje med skrajnima zakasnitvama spreminjamo z nastavitvijo prizem v smeri puščic.
Ti:safir ojačevalniki Regenerativni ojačevalniki Ojačevalniki z več prehodi Za še večje moči so lahko večstopenjski Repeticija 1000 Hz do 10 Hz Chirped pulse tehnologija za preprečevanje poškodb