晶体 完美性 de 鉴定 报告人 : 叶佳

测定晶体缺陷结构的重要

 晶体中缺陷的种类、数量是鉴 别晶体质量优劣的重要标志。  晶体的缺陷通常能够吸收、反 射或散射晶体内部产生的或是 由外部输入的磁、光、声和电 能量，从而影响晶体的性能。

晶体中的缺陷按几何线度分类  体缺陷  面缺陷  线缺陷  点缺陷

测量结构欠完美性的方法 光学法 光学法 最早最有用的鉴定方法之一 最早最有用的鉴定方法之一 透射电子显微术 透射电子显微术 昂贵分辨率高 昂贵分辨率高 X 射线形貌术 X 射线形貌术 包括最广泛使用的近代技术 包括最广泛使用的近代技术 扫描电子显微术 扫描电子显微术 提供了一整套技术，对于半导 体材料的研究有特殊意义 提供了一整套技术，对于半导 体材料的研究有特殊意义

X 射线形貌术分类 根据试样厚度 t 的多少来分类  当 ut<=1 时，一般选择兰氏法  当 ut>>1 时，一般选择反常投射形貌术 u 是所选用的单色 X 射线的先行吸收系数 u 是所选用的单色 X 射线的先行吸收系数

兰氏法 —— 最广泛使用的形貌术  晶体和胶片一起 移动，用照片方法 纪录的是经选择的 直射或衍射光束强 度的逐行扫描纪录 图。。

 完美晶体中的缺陷引起反射轻度的 局部增加。在消光衬比条件下，当 衍射光束来记录形貌图时，缺陷表 现为一些强度比完美晶体背景更强 的区域。

一颗宽约 4 毫米的天然金 刚石的兰氏 X 射线形貌图

硅单晶纵断面的兰氏 X 射线形貌图

 X 射线形貌术适用于生长态的 整体晶体，而起飞破坏性及 其分辨率和可详细解释性已 达可接受的水平，因此这种 技术是一种最有价值的鉴定 技术。

参考书  《晶体生长》 —— 中国建筑工业出版社 —— 中国建筑工业出版社  《晶体生长》 —— 科学出版社 —— 科学出版社  《晶体生长技术》 —— 机械工业出版社 —— 机械工业出版社

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