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無塵室儀器介紹一、原子力顯微鏡 (Atomic Force Microscope) 二、 D.I Water 製造機三、曝光顯影機四、光學顯微鏡 OM 報告人彭中南

原子力顯微鏡簡介：掃瞄式探針顯微鏡是以極細微的探針，在極靠近試片表面的形貌及特性 ( 如電、磁、光、力等 ) 進行探測. 掃瞄式探針顯微鏡可承載 4 吋至 6 吋之晶圓，移動範圍為 25mm×25mm×25mm ，掃瞄範圍為 50μm×50 μm × 12μm.

AFM 設備

AFM 試片 1. 最高點和最低點最小 1nm ，最大不要超過 30μm ，不然會造成探針斷裂 2. 放置試片到磁力吸附台上時記得要確定有無粉末灰塵在試片上面

工作原理  AFM 則是利用探針尖端與試片表面的作用力，即凡得瓦力相吸或相斥的作用力，使得探針懸臂產生彎曲偏移。藉由掃描過程中即時量測懸臂偏移量，進而產生樣品微小區域表面形貌的影像。

試片結果分析   mm μm

試片表面粗超度比較 ( 平面 )  處理前處理後

3-D Mesh 比較  處理前處理後 R max

3-D Height 比較  處理前處理後

3-D solid 比較   處理前處理後

2-D 量測

3-D 量測一般表面量測 A.B 表面各別量測

應用半導體製程量測、光碟儲存媒體量測、奈米材料或元件檢測

D.I Water 製造機簡介

使用方法 1. 使用前請按 ON 2. 電阻值需要在 17.4MΩ 以上 3. 將閥門拉下 4. 若上述情形無法運行請勿使用 5. 使用完畢，拉起閥門 6. 將 DI 機維持在 satndby 的狀態 ( 不是 OFF)

主要按鍵配置簡介圖

曝光顯影機簡介

一般曝光電路板流程

光學顯微鏡 OM 簡介  光學顯微鏡的儀器裝置簡便，其成像原理是利用可見光照射在試片表面造成局部散射或反射來形成不同的對比，然而因為可見光的波長高達埃，在解析度 ( 或謂鑑別率、解像能，係指兩點能被分辨的最近距離 ) 的考量上自然是最差的。在一般的操作下，由於肉眼的鑑別率僅有 0.2 mm ，當光學顯微鏡的最佳解析度只有 0.2 um 時，理論上的最高放大倍率只有 1000 X ，放大倍率有限，但視野卻反而是各種成像系統中最大的，這說明了光學顯微鏡的觀察事實上仍能提供許多初步的結構資料。

光學顯微鏡設備圖