1. Technology Roadmap for Nano-electronics
Rational You
ITRI-IEK-NEMS
2001/08/01
Source: IST (2000/11)

2. Contribution of Electronics to the Gross Product
Source: IST (2000/11)

3. Electronic Market Forecast
Source: IST (2000/11)

4. Minimum Feature Size versus Year of Introduction
Source: IST (2000/11)

5. Selected data from ITRS 1999
Source: IST (2000/11)

6. Technical Requirements for Memory Applications
Source: IST (2000/11)

7. The System-on-a-Chip of the Future?
Source: IST (2000/11)

8. Technical Requirements fir Logic Applications
Source: IST (2000/11)

9. Estimated Governmental Support to Nanoscience and Technology in Europe
Source: IST (2000/11)

10. Nature of the NID Projects
Source: IST (2000/11)

11. Energy -- Delay Diagram for Electronics
Source: IST (2000/11)

12. Cost of a Semiconductor Facility
Source: IST (2000/11)

13. Principle of a Single Electron Transistor
Source: IST (2000/11)

14. Comparison between Conventional and Single Electron Memories
Source: IST (2000/11)

15. Concept of an Interband Tunnelling Diode
Source: IST (2000/11)

16. An Interband Tunnelling Device in Operation
Source: IST (2000/11)

17. Concept of a Resonant Tunnelling Device.
Source: IST (2000/11)

18. Oscillation Frequencies for ITD and RTD
Source: IST (2000/11)

19. Comparison of Tunnelling Devices Parameters
Source: IST (2000/11)

20. Concepts for three terminal tunnelling devices-1”
Source: IST (2000/11)

21. Concepts for three terminal tunnelling devices-2
Source: IST (2000/11)

22. Transport through a Molecule
Source: IST (2000/11)

23. Scheme of a Hybrid Metal-Molecule-Semiconductor Structure
Source: IST (2000/11)

24. Scheme of a Spin Valve
Source: IST (2000/11)

25. Scheme of a Tunnel function
Source: IST (2000/11)

26. Y-branch Switch
Source: IST (2000/11)

27. Maturity of Lithography Options
Source: IST (2000/11)

28. Practical and Ultimate Resolution Limits for Lithography
Source: IST (2000/11)

29. Sensitivity perType of Lithography
Source: IST (2000/11)

30. Resolution and Sensitivity for E-beam Lithography
Source: IST (2000/11)

31. The Imprint Process
Source: IST (2000/11)

32. The Inking Process
Source: IST (2000/11)

33. Comparison of Printing Techniques
Source: IST (2000/11)

34. Throughput us resolution for Different Exposure Techniques
Source: IST (2000/11)

35. Design Hierarchies for Nanoscale Circuits
Source: IST (2000/11)

36. CMOS Gate Delay vs Gate Length
Source: IST (2000/11)

37. RTD/HFET Circuits
Source: IST (2000/11)

38. Performance for Tunnelling Based SRAM and Si Memory
Source: IST (2000/11)

39. The Two Polarization States in a QCA Cell
Source: IST (2000/11)

40. Logic Functions Based upon a QCA Majority Voting Gate
Source: IST (2000/11)

41. Dot Distance Requirements for a QCA Circuit
Source: IST (2000/11)

42. Intelligent RAM Chip (IRAM)
Source: IST (2000/11)

43. Propagated Instruction Processor
Source: IST (2000/11)

44. The Re-configurable Architechture Workstation (RAW)
Source: IST (2000/11)

45. Redundant Interconnections of the Teramac
Source: IST (2000/11)

46. Aspects of Architectures for Nano-electronic Systems
Source: IST (2000/11)

47. Components of Nano-electronic Architectures
Source: IST (2000/11)

48. Comparison of Architectures
Source: IST (2000/11)

49. Comparison Memory Devices Year 2000
Source: IST (2000/11)

50. Forecast Memory Devices Year 2006
Source: IST (2000/11)

51. Forecast Memory Devices Year 2012
Source: IST (2000/11)

52. Comparison Logic I High Frequency Devices Year 2000 (in production)
Source: IST (2000/11)

53. Comparison Logic I High Frequency Devices Yar 2000 (in research)
Source: IST (2000/11)

54. Forecast Logic I High Frequency Devices Yar 2006
Source: IST (2000/11)

55. Forecast Logic I High Frequency Devices Year 2012
Source: IST (2000/11)

56. Comparison Circuit Performance Year 2000
Source: IST (2000/11)

57. Forecast Circuit Performance Year 2006
Source: IST (2000/11)

58. Forecast Circuit Performance Year 2012
Source: IST (2000/11)