1. 無塵室儀器介紹 一、原子力顯微鏡 (Atomic Force Microscope) 二、 D.I Water 製造機 三、曝光顯影機 四、光學顯微鏡 OM 報告人 彭中南

2. 原子力顯微鏡簡介： 掃瞄式探針顯微鏡是以極細微的探針，在極靠近試 片表面的形貌及特性 ( 如電、磁、光、力等 ) 進行探 測. 掃瞄式探針顯微鏡可承載 4 吋至 6 吋之晶圓，移 動範圍為 25mm×25mm×25mm ， 掃瞄範圍為 50μm×50 μm × 12μm.

3. AFM 設備

4. AFM 試片 1. 最高點和最低點 最小 1nm ，最大不要超過 30μm ，不然會造成探針斷裂 2. 放置試片到磁力吸附台上時記得要確定有無 粉末灰塵在試片上面

5. 工作原理  AFM 則是利用探針尖端與試片表面的作用力， 即凡得瓦力相吸或相斥的作用力，使得探針 懸臂產生彎曲偏移。藉由掃描過程中即時量 測懸臂偏移量，進而產生樣品微小區域表面 形貌的影像。

6. 試片結果分析   mm μm

7. 試片表面粗超度比較 ( 平面 )  處理前 處理後

8. 3-D Mesh 比較  處理前 處理後 R max

9. 3-D Height 比較  處理前 處理後

10. 3-D solid 比較   處理前 處理後

11. 2-D 量測

12. 3-D 量測 一般表面量測 A.B 表面各別量測

13. 應用 半導體製程量測、光碟儲存媒體量測 、奈米材 料或元件檢測

14. D.I Water 製造機簡介

15. 使用方法 1. 使用前請按 ON 2. 電阻值需要在 17.4MΩ 以上 3. 將閥門拉下 4. 若上述情形無法運行請勿使用 5. 使用完畢，拉起閥門 6. 將 DI 機維持在 satndby 的狀態 ( 不是 OFF)

16. 主要按鍵配置簡介圖

17. 曝光顯影機簡介

18. 一般曝光電路板流程

19. 光學顯微鏡 OM 簡介  光學顯微鏡的儀器裝置簡便，其成像原理是利用可 見光照射在試片表面造成局部散射或反射來形成不 同的對比，然而因為可見光的波長高達 4000- 7000 埃，在解析度 ( 或謂鑑別率、解像能，係指 兩點能被分辨的最近距離 ) 的考量上自然是最差的。 在一般的操作下，由於肉眼的鑑別率僅有 0.2 mm ， 當光學顯微鏡的最佳解析度只有 0.2 um 時，理論 上的最高放大倍率只有 1000 X ，放大倍率有限， 但視野卻反而是各種成像系統中最大的，這說明了 光學顯微鏡的觀察事實上仍能提供許多初步的結構 資料。

20. 光學顯微鏡設備圖