1. ME587R 微影技術 概論 志聖工業 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700
志聖工業 高啟清博士
Charles Kao, Ph.D
Tel:
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2. 高啟清 Charles Kao Ph.D 學歷： 現任： 專長： 2008 清華大學EMBA 1995 美國賓州州立大學機械系 博士碩士
1985 台灣大學機械系 學士
1981 師大附中 422班
現任：
志聖工業研發中心協理
台灣電路板協會技術發展委員會委員
專長：
影像移轉製程及曝光設備,電漿蝕刻設備
研發管理,行銷企劃
自動控制,影像處理,系統分析
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3. 課程目標 學習在PCB, LCD, IC 製程中微影技術(曝光, 影像轉移)的基本概念
研討微影(曝光)技術之相關材料,設備, 流程,控制方法及發展趨勢
準備更進階的學習
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4. 微影技術概論 – 課程進度 2007 Electronic industry development 2次 2/27, 3/6
Photolithography overview 次
3/13, 3/20
Statistics for equipment development 次
3/27, (4/3 清明停課)
MLB & HDI PCB image transfer technology 次
4/10, (4/17, 4/24期中考), 5/1, 5/8
LCD image transfer technology and trend 次
5/15
IC lithography process & equipment 次
5/22, 5/29, 6/5
IC,LCD,PCB technology roadmap & market trend 次
6/12, (6/19端午), 6/26, (7/3 期末考結束)
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5. 評量標準 分組：研究所二人一組, 大學部四人一組 上課心得報告七篇 30% 期中報告 30% 期末報告 30% 出席 10% 每組一份
上課心得報告七篇 30%
每組一份
1~2頁
期中報告 30%
每組一份，針對題目提出分析報告
期末報告 30%
每人一份，自選微影相關主題
出席 10%
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6. 期中報告題目(2004) 光罩 光阻 曝光機 PCB 製造廠商 找出光罩廠商三家, 列出其可製作光罩種類, 並提出規格比較表(最少六種)
找出在台灣的乾膜製造廠三家, 各找出其二種乾膜做說明, 並提出這六種乾膜規格比較表
曝光機
找出歐美日系曝光機廠商各一家,各找出其二種主要機種做說明, 並提出這六種機型規格比較表
PCB 製造廠商
找出台灣前三十大PCB製造廠六家, 找出其產品發展Roadmap, 並提出這六家技術發展比較表
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7. 期中報告題目(2006) 各位研發部的優秀工程師 本公司將要導入BGA板內層2/2線路製程
請評估線路製程上應要求的各項規格，並計算達成 2/2 規格可行性
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8. 期中報告交卷方式,評分標準 交卷方式 評分標準: 由80分開始計算 以Power point 檔交卷
到 註明王大明期中報告
列出參考書目,文章,網站,…
評分標準: 由80分開始計算
交期: 晚一天扣5分
內容完整性
需說明項目少一項扣5分
說明完整的加分 1~5分
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9. 期末報告題目(舉例) 主題：Lithography發展 (光罩,光阻,設備) 網站
193 nm ArF immersion lithography
157 nm F2 lithography
E-Beam Lithography (EPL, SCALPEL,..)
EUV lithography
其他怪招 網站
developer.intel.com/technology/itj/index.htm
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10. 參考書目- PCB
Coombs, Printed Circuits Handbook, 5th Ed., McGraw-Hill, 2001, ISBN:
Dietz, Dry Film Photoresist Processing Technology, Electrochemical Pub., 2001, ISBN:
林定皓,多層與高密度電路板全覽,亞洲智識,2002.
林定皓,電子構裝載板技術, 台灣電路板協會, 2003.
林定皓,軟性電路板技術, 台灣電路板協會, 2003.
林定皓,電路板機械加工技術, 台灣電路板協會, 2004.
林定皓,高密度印刷電路板技術, 台灣電路板協會, 2004.
林定皓,電路板影像轉移技術, 台灣電路板協會, 2004.
林定皓,
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11. 參考書目- FPD 顧鴻壽等, 光電平面面板顯示器基本概論, 高利圖書, 2004, ISBN: 986-412-001-8.
苗村省平, 液晶Display技術現況, 工業調查會, 2004, ISBN: (日文)
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12. 參考書目- IC
Sheats, Smith, Microlithography-Science and Technology, Marcel Dekker, 1998, ISBN:
蕭宏原著, 半導體製程技術導論, 台灣培生, 2003, ISBN:
張勁燕, 半導體製程設備, 五南, 2002, ISBN:
龍文安, 半導體微影技術, 五南, 2004, ISBN: X.
岡崎信次等, 半導體微影技術現況, 工業調查會, 2003, ISBN: (日文)
Silverman, Intel Lithography Roadmap, Intel Technology Journal, Vol. 6 Issue 2, 2002 May, ISSN: X.
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